Liqui-Cel

Megasonic/Ultrasonic

Technische Kurzberichte

Kurzbericht 44: Gezielte Kontrolle von gelöstem O2 und N2
Gezielte Kontrolle von O2 und N2 Gas in Wasser der Halbleiter Wafer Reinigung.

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Suchen Sie das richtige Produkt für Ihr Entgasungsverfahren? In den technischen Spezifikationen finden Sie ausführliche Informationen zu allen Liqui-Cel¨-Membrankontaktoren.

Megaschallbestrahlung ist ein gängiger Prozess zum Entfernen von Partikeln, Metallen und organischen Stoffen von Halbleiteroberflächen und anderen Materialien. Bei diesem Prozess müssen Halbleiterwafer in Wasserbäder eingetaucht und dann Ultraschallwellen durch das Wasser geleitet werden, um Verunreinigungen dieser Art zu entfernen. Dabei wirken sich Blasen im Wasserbad negativ auf den Megaschallprozess aus. Gleichzeitig ist erwiesen, dass kleine Mengen an Wasserstoff oder Stickstoff, im Megaschallwasserbad gelöst, den Reinigungsprozess verbessern. Liqui-Cel®-Membrankontaktoren sind die ideale Lösung für eine optimale Reinigungsleistung der Ultraschallbäder, da sie in einem Schritt Sauerstoff entfernen UND Stickstoff oder Wasserstoff im Wasser lösen. Liqui-Cel®-Kontaktoren diffundieren das Gas auf molekularer Ebene so kontrolliert in Wasser, dass keine Blasen entstehen. Die molekulare Diffundierung der Gase ist besonders wichtig, da Blasen den Reinigungsprozess negativ beeinträchtigen.
 

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